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一种用于硅光模块的大功率光源COC及硅光模块、共晶方法 

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申请/专利权人:武汉钧恒科技有限公司

摘要:本发明涉及一种用于硅光模块的大功率光源COC共晶方法,在芯片N面镀金层下镀含有磁性材料的合金层;由共晶贴片机的预热台对陶瓷热沉预热,预热温度小于250℃;将预热陶瓷热沉转于共晶贴片机的加热台上,并由共晶贴片机吸嘴吸附芯片,然后开启加热台,温度为260℃~270℃,吸嘴下压以让芯片与陶瓷热沉上处于软化状态的金锡焊料粘接,持续时间2~4s;将其转入氮气箱内的程控加热台上,并向氮气箱内持续通入氮气以排空空气,开启强磁场,强磁场将让芯片的合金层产生向下的吸力,以挤压金锡焊料,开始在25~320℃温度范围内阶梯升温降温以完成共晶。有益效果为:提升共晶贴片机产出率,节省氮气以及提高共晶质量和良率。

主权项:1.一种用于硅光模块的大功率光源COC共晶方法,其特征在于,包括如下步骤:STEP1、在芯片(1)N面镀金层下镀含有磁性材料的合金层(2);STEP2、由共晶贴片机的预热台(3)对陶瓷热沉(4)预热,预热温度小于250℃;STEP3、将预热陶瓷热沉(4)转于共晶贴片机的加热台(5)上,并由共晶贴片机吸嘴(6)吸附芯片(1),然后开启加热台(5),温度为260℃~270℃,吸嘴(6)下压以让芯片(1)与陶瓷热沉(4)上处于软化状态的金锡焊料粘接,持续时间2s~4s;STEP4、将多个STEP3中处于粘接状态的芯片及陶瓷热沉(4)转入氮气箱(8)内的程控加热台(7)上,并向氮气箱(8)内持续通入氮气以排空空气,开启强磁场(9),强磁场(9)将让芯片(1)的合金层(2)产生向下的吸力,以挤压金锡焊料,与此同时,开始在25℃~320℃温度范围内阶梯升温降温以完成共晶。

全文数据:

权利要求:

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