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申请/专利权人：统一半导体公司;统一半导体股份有限公司

摘要：本发明涉及区分存在于基板的正面的缺陷和存在于基板的背面的缺陷的装置和方法，基板由在检查波长下透明的材料制成。方法包括将基板设置在检查系统中，检查系统包括耦合到光学系统的至少一个光源，基板设置在支承件上且关于光学系统定位成使得第一和第二光束在基板的正面的测量点处相交，以及控制支承件和光学系统的相对移动以沿基板的正面的测量路径扫描测量点，相对移动被控制成使得参考平面保持与测量路径相切。方法还包括在信号中标识第一图案，其对应于由基板的背面的颗粒散射的光并且呈现按确定的分开间隔彼此分开的两个强度峰，确定的分开间隔对应于缺陷P要在分开两个照射点S1、S2的距离d上移动所需的时间。

主权项：1.一种区分存在于基板的正面的缺陷与存在于所述基板的背面的缺陷的方法，所述基板S是由在检查波长下透明的材料制成的，所述方法包括以下步骤：-将所述基板S设置在检查系统1中，所述检查系统包括至少一个光源2，所述至少一个光源耦合到光学系统2’，以发射第一光束6和第二光束6’，所述第一光束6和所述第二光束6’具有所述检查波长、被包含在参考平面中并且在所述参考平面中相交，所述基板S设置在支承件8上并且关于所述光学系统2’定位成使得所述第一光束6和所述第二光束6’在所述基板的所述正面的测量点M处相交，并且还在按距离d分开的相应的两个照射点S1、S2处照射所述基板S的所述背面BS；-控制所述支承件8和所述光学系统2’的相对移动，以沿所述基板的所述正面的测量路径扫描所述测量点M，所述相对移动按照使得所述参考平面保持与所述测量路径相切的方式被控制；-收集由存在于所述基板的所述正面和或所述背面的缺陷散射的光的至少一部分并且建立表示随着沿所述测量路径扫描所述测量点而收集的光的强度变化的信号U；所述方法还包括以下步骤：在所述信号U中标识第一图案，所述第一图案对应于由所述基板的所述背面的缺陷P散射的光并且呈现两个强度峰，所述两个强度峰按确定的分开间隔彼此分开，确定的分开间隔对应于所述缺陷P要在分开所述两个照射点S1、S2的所述距离d上移动所需的时间。

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