龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：浙江莱宝科技有限公司
摘要：本申请适用于光刻技术领域，提供了一种光刻掩膜及其制造方法。光刻掩膜的制造方法包括：在透明底板上形成遮光层和相移层；遮光层具有多个间隔排布的遮光部，相邻的两个遮光部之间的区域为透光区域，相移层具有位于透光区域内的插入部；在第二功能层上形成光刻胶层；分多次朝向透明底板远离遮光层的表面射入不同传播方向的曝光光束，以使光刻胶层被曝光成为内曝光部、完好部以及外曝光部，完好部完全包裹内曝光部；对光刻胶层显影；对相移层蚀刻；去除内曝光部和完好部。通过采用本申请中的光刻掩膜的制造方法制造光刻掩膜，只需多次朝向透明底板远离遮光层的表面射入不同传播方向的曝光光束即可实现光刻胶层的曝光处理，节省了制造成本。
主权项：1.一种光刻掩膜的制造方法，其特征在于，包括：在透明底板上形成第一功能层；在所述第一功能层上形成第二功能层，其中，所述第一功能层和所述第二功能层中的一者为遮光层，另一者为相移层；所述遮光层具有多个间隔排布的遮光部，相邻的两个所述遮光部之间的区域为透光区域，所述相移层具有插入部，所述插入部的部分结构位于所述透光区域内；在所述第二功能层上形成光刻胶层，其中，所述光刻胶层覆盖所述遮光层；分多次朝向所述透明底板远离所述遮光层的表面射入不同传播方向的曝光光束，以使所述光刻胶层被曝光成为内曝光部、完好部以及外曝光部，所述完好部覆盖相邻的两个所述遮光部，所述内曝光部覆盖相邻的两个所述遮光部之间的所述透光区域，所述完好部完全包裹所述内曝光部，所述外曝光部位于所述完好部的一侧；对所述光刻胶层显影；对所述相移层蚀刻；去除所述内曝光部和所述完好部。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江莱宝科技有限公司 光刻掩膜及其制造方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号