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申请/专利权人：凸版光掩模有限公司
摘要：提供能够在抗蚀剂膜上高精度地形成微细的抗蚀剂图案的光掩模坯、其光掩模的制造方法以及通过该方法制造的光掩模。本实施方式涉及的光掩模坯100是用于制作适用于波长200nm以下的曝光光的相移掩模200的光掩模坯，依次具备透光性基板1、相移膜2、遮光膜3、以及硬掩模膜4，遮光膜3由含有Cr的材料形成，硬掩模膜4包含位于遮光膜3侧的下层41和构成硬掩模膜4的最表层的上层42，下层41含有选自钨W、碲Te、钌Ru以及它们的化合物中的至少1种，上层42含有钽Ta或Ta化合物，化合物含有选自O、N以及C中的至少一种。
主权项：1.一种光掩模坯，其是用于制作适用于波长200nm以下的曝光光的光掩模的光掩模坯，特征在于，依次具备透明基板、薄膜、以及硬掩模膜，所述薄膜由含有铬的材料形成，所述硬掩模膜包含位于所述薄膜侧的下层和构成所述硬掩模膜的最表层的上层，所述下层含有选自钨、碲、钌以及它们的化合物中的至少1种，所述上层含有钽或钽化合物，所述化合物含有选自氧、氮以及碳中的至少一种。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 凸版光掩模有限公司 光掩模坯、光掩模以及光掩模的制造方法
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