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多波段超大模场增益光纤布拉格光栅的刻写方法及系统 

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申请/专利权人:北京工业大学

摘要:多波段超大模场增益光纤布拉格光栅的刻写方法及系统,能够在超大模场光纤中刻写FBG,进一步提高光纤激光器的输出功率,提高光纤写入效率,光栅栅面无杂质,刻写效果均匀,提高光栅反射率。刻写光源由钛宝石激光脉冲经过倍频模块将激光脉冲倍频为紫外飞秒激光脉冲;刻写装置设置三维位移台,经过电脑和控制器直接控制位移台三个方向的移动距离,精度为1μm;光纤由光纤夹具、三维手动调节架来调节三个方向的移动;掩模板通过掩模板夹具夹持,以便调节掩模板的倾斜角度和掩模板与光纤的距离;检测装置采用环形器单向导光,用模场适配器对超大模场光纤与环形器进行模场匹配,配合光谱仪实时观察光栅反射和透射光谱,由此判断光栅的刻写情况。

主权项:1.多波段超大模场增益光纤布拉格光栅的刻写方法,其特征在于:通过紫外飞秒激光脉冲来刻写超大模场增益光纤布拉格光栅,刻写光源由钛宝石激光脉冲经过倍频模块将激光脉冲倍频为紫外飞秒激光脉冲;刻写装置设置三维位移台,经过电脑和控制器直接控制位移台三个方向的移动距离,精度为1μm;光纤由光纤夹具、三维手动调节架来调节三个方向的移动;相位掩模板通过掩模板夹具夹持,以便调节相位掩模板的倾斜角度和相位掩模板与光纤的距离;检测装置采用环形器进行单向导光,使用模场适配器对超大模场光纤与环形器进行模场匹配,配合光谱仪实时观察光栅的反射光谱和透射光谱,由此判断光栅的刻写情况。

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权利要求:

百度查询: 北京工业大学 多波段超大模场增益光纤布拉格光栅的刻写方法及系统

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