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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：基板处理装置具备：批处理部，其具有多个批处理单元，各个批处理单元用于在贮存于处理槽内的处理液中对多个基板一并实施液处理；单片处理部，其对由批处理部处理后的基板逐张地实施处理；待机部，其使由批处理部处理后的基板在浸渍槽内的浸渍液中等待；以及搬送系统，其从待机部向单片处理部搬送基板，所述搬送系统包括用于将基板从浸渍液中逐张地取出的第一基板搬送单元。待机部对基板进行第一液处理和第二液处理中的至少一方，所述第一液处理是使基板表面亲水化的液处理、或者是提高或维持表面的亲水性的液处理，所述第二液处理是使基板表面的电动电位为负的液处理。
主权项：1.一种基板处理装置，具备：批处理部，其具有多个批处理单元，各个所述批处理单元构成为具有用于贮存处理液的处理槽并且使多个基板浸在贮存于所述处理槽内的处理液中来对所述多个基板一并实施液处理；单片处理部，其具备对由所述批处理部处理后的所述多个基板逐张地实施处理的单片处理单元；待机部，其具有用于贮存浸渍液的浸渍槽，使由所述批处理部处理后的所述多个基板以浸在所述浸渍液中的状态等待；以及搬送系统，其从所述待机部向所述单片处理部搬送所述多个基板，所述搬送系统包括用于将浸在所述浸渍槽内的所述浸渍液中的所述多个基板从所述浸渍液中逐张地取出的第一基板搬送单元，其中，所述待机部构成为能够对所述基板进行第一液处理和第二液处理中的至少一方，所述第一液处理是使所述基板的表面亲水化的液处理、或者是提高或维持所述基板的表面的亲水性的液处理，所述第二液处理是使所述基板的表面的电动电位为负的液处理。
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百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理方法
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