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申请/专利权人：齐鲁中科光物理与工程技术研究院
摘要：本发明属于光学薄膜领域，具体涉及一种紫外激光器反射镜用高损伤阈值355nm高反薄膜的制备方法，先采用离子源产生的等离子体辅助镀制15个周期的规整14波长厚度的HfO2层和SiO2层，再屏蔽离子源继续镀制0.8Al2O3、1.2SiO2、0.8Al2O3、1.2SiO2、0.8Al2O3、1.2SiO2、0.8Al2O3外层膜系；采用三材料双膜堆体系，HfO2SiO2膜堆可有效的保证高反膜反射率大于99.5%；在外层镀制屏蔽离子源的以Al2O3结尾的非规整Al2O3SiO2膜堆，能有效改善外层结构，降低外层电场强度和薄膜内应力，膜层的吸收损耗降低，高反薄膜的激光损伤阈值进一步得到提高，达到23.7MW·cm‑2；该制备方法高效易行，薄膜抗激光损伤性能提升效果明显，具有可重复性，适用于产业化生产，在高功率紫外激光器领域具有极大的市场前景。
主权项：1.一种紫外激光器反射镜用高损伤阈值355nm高反薄膜的制备方法，其特征在于，先采用离子源产生的等离子体辅助镀制15个周期的规整14波长厚度的HfO2层和SiO2层，再屏蔽离子源继续镀制0.8Al2O3、1.2SiO2、0.8Al2O3、1.2SiO2、0.8Al2O3、1.2SiO2、0.8Al2O3外层膜系，具体镀制步骤如下：（1）将基底清洁并装入镀膜机中；（2）控制镀膜机腔室内真空度达到9.0×10-4，基底温度稳定到210℃，启动离子源进行基底镀膜面预清洗6min；（3）在离子源辅助下，利用电子束蒸发交替镀制15个周期的规整14波长厚度的HfO2层和SiO2层；（4）关闭离子源遮蔽挡板，利用电子束蒸发依次镀制0.8Al2O3、1.2SiO2、0.8Al2O3、1.2SiO2、0.8Al2O3、1.2SiO2、0.8Al2O3，外层膜系共7层，其中0.8、1.2代表规整14波长光学厚度的倍数；（5）镀制完成后，高反薄膜共37层，待体系冷却，取出镀有高反薄膜的基底。
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权利要求：
百度查询： 齐鲁中科光物理与工程技术研究院 一种适用于紫外激光器的355nm高反薄膜的制备方法
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