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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：本发明抑制焦深的降低等，并且实现所形成的图案形状的微细化。描绘方法具备：相对于感光材料以在至少一部分具有第1位移图案的第2描绘图案照射描绘光的工序；使感光材料显影的工序、以及在基板的上表面形成第1图案形状的工序，第1位移图案是与第1描绘图案中的对应的单位图案至少一部分重叠且从对应的单位图案偏移的单位图案。
主权项：1.一种描绘方法，其特征在于，所述描绘方法包括如下工序：以第1描绘图案对配置于基板的上表面的感光材料照射描绘光；以在至少一部分具有第1位移图案的第2描绘图案对所述感光材料照射所述描绘光；在以所述第1描绘图案以及所述第2描绘图案的所述描绘光的照射后使所述感光材料显影；以及基于显影的所述感光材料在所述基板的上表面形成第1图案形状，所述第1位移图案是一部分与所述第1描绘图案中的对应的单位图案重叠且从对应的所述单位图案偏移的所述单位图案，在仅以所述第1描绘图案的所述描绘光以及以所述第2描绘图案的所述描绘光中的任一方的照射后被显影的情况下，所述感光材料在显影后残留，并且在以所述第1描绘图案的所述描绘光以及以所述第2描绘图案的所述描绘光双方的照射后被显影的情况下，所述感光材料通过显影处理被去除。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社斯库林集团 描绘方法以及描绘装置
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