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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：本发明提供一种能够容易地清理腔室内的污染的热处理装置及热处理装置的洗净方法。随着成为产品的半导体晶圆的处理在热处理装置1中进行，污染物质附着在腔室6的内壁面上。当半导体晶圆的处理结束后，向腔室6内供给包含臭氧的气体而形成包含臭氧的氛围。一边通过来自卤素灯HL的光照射对包含臭氧的氛围进行加热，一边从闪光灯FL照射包含紫外线光的闪光。利用紫外线光分解臭氧而生成活性氧，该活性氧与污染物质发生反应，由此从腔室6的内壁面分解去除污染物质。经分解而气化的污染物质通过排出腔室6内的氛围气体而排出至腔室6外。
主权项：1.一种热处理装置，其特征在于：通过对衬底照射光而对该衬底进行加热，且具备：腔室，收容衬底；晶座，在所述腔室内保持所述衬底；连续点亮灯，对所述腔室内照射光而对保持在所述晶座的所述衬底进行加热；紫外线灯，对所述腔室内照射包含紫外线光的光；及气体供给部，向所述腔室内供给包含臭氧的气体；且一边使所述衬底的处理结束后的所述腔室内成为包含臭氧的氛围，一边在将虚设衬底保持于所述晶座的状态下，从所述紫外线灯照射包含紫外线光的光，使紫外线光在所述虚设衬底的表面反射而到达所述腔室的内壁面，在利用所述连续点亮灯将所述包含臭氧的氛围加热的状态下，从所述紫外线灯照射包含紫外线光的光。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社斯库林集团 热处理装置及热处理装置的洗净方法
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