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申请/专利权人：浙江美迪凯光学半导体有限公司
摘要：本实用新型提供一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理系统，包括用于对波导片进行双面抛光的抛光设备；用于对波导片进行镀膜的镀膜设备；用于数个镀膜片组合成阵列产品的胶合设备，以及平面磨粗加工设备；线切割设备及研磨设备；CNC设备；用于对CNC加工后研磨面进行抛光的第二抛光设备；修平设备和或修频设备，本实用新型系统可以制备无表面纳米级凸起的波导片，提升波导片精准的光折射效果，尤其是AR眼镜需要跟踪眼球视线轨迹的动态过程，减少图像变化时的变动差异，提高图像清晰度和变化响应准确。
主权项：1.一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理系统，其特征在于：包括依次工艺连接的以下设备：用于对波导片进行双面抛光的抛光设备；用于对波导片进行镀膜的镀膜设备；用于数个镀膜片组合成阵列产品的胶合设备，以及平面磨粗加工设备；线切割设备及研磨设备；CNC设备；用于对CNC加工后研磨面进行抛光的第二抛光设备；修平设备和或修频设备。
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权利要求：
百度查询： 浙江美迪凯光学半导体有限公司 一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理系统
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