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一种用于去除晶圆表面Ni/Ag镀层的溶液及其应用方法 

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申请/专利权人:安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司

摘要:本发明公开了一种用于去除晶圆表面NiAg镀层的溶液及其应用方法,本发明示出了一种能够高效去除晶圆表面镀层(NiAg)的溶液及其应用方法。相较于现有技术,本发明具有腐蚀效率高、成本低、操作简便、环境友好等优点,适用于半导体制造和后处理工艺中。

主权项:1.一种用于去除晶圆表面NiAg镀层的溶液及其应用方法,其特征是:该溶液的组成如下:硝酸:作为主要氧化剂,浓度为20-30wt%;氯化钠:浓度为5-10wt%,用于增强银的溶解度;硫酸:浓度为5-10wt%,提供酸性环境,促进镍的溶解;氟化氢:浓度为1-3wt%,用于防止氧化物在晶圆表面再次形成;去离子水:余量,用于稀释溶液至所需浓度;应用方法步骤如下:步骤1,溶液准备:按照上述配方,在搅拌条件下,依次将硝酸、氯化钠、硫酸和氟化氢加入去离子水中,充分混合均匀,得到去镀溶液;步骤2,晶圆准备:将待处理的晶圆置于洁净环境中,确保表面无大颗粒杂质;步骤3,浸泡处理:将晶圆浸入预先配制的去镀溶液中,浸泡时间为5-10分钟,期间保持轻微的搅拌以促进溶液接触;步骤4,中和清洗:将处理后的晶圆取出,立即用大量去离子水冲洗,彻底洗净残留溶液,然后用稀氢氧化钠溶液中和表面残余的酸液;步骤5,干燥:使用无水酒精冲洗晶圆,随后在洁净环境下晾干或使用氮气吹干。

全文数据:

权利要求:

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