首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

预测曝光图形偏移的方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

摘要:一种预测曝光图形偏移的方法,包括:提供若干训练图形;获取各所述训练图形对应的第一制程信息;根据所述训练图形的所述第一制程信息对各所述训练图形进行实际曝光,获取相应的训练曝光图形;根据所述训练曝光图形的位置和所述训练图形的位置,获取各所述训练图形相应的所述训练曝光图形的偏移向量的实际值;采用若干所述训练曝光图形的偏移向量的实际值和对应的若干所述第一制程信息进行机器学习,获取用于根据制程信息获取偏移向量的偏移预测模型,采用所述偏移预测模型,可以对待测图形对应的曝光图形的偏移误差进行预测。

主权项:1.一种预测曝光图形偏移的方法,其特征在于,包括:提供若干训练图形;获取各所述训练图形对应的第一制程信息;根据所述训练图形的所述第一制程信息对各所述训练图形进行实际曝光,获取相应的训练曝光图形;根据所述训练曝光图形的位置和所述训练图形的位置,获取各所述训练图形相应的所述训练曝光图形的偏移向量的实际值;采用若干所述训练曝光图形的偏移向量的实际值和对应的若干所述第一制程信息进行机器学习,获取用于根据制程信息获取偏移向量的偏移预测模型。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 预测曝光图形偏移的方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

相关技术
相关技术
相关技术
相关技术