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申请/专利权人：无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司
摘要：本发明属于半导体技术领域，公开了灭弧供气管路及刻蚀设备。灭弧供气管路，用于为刻蚀设备输的反应腔室送工艺气体，包括第一输送管、灭弧组件以及第二输送管路。第一输送管与气源连通；灭弧组件具有灭弧通道，灭弧通道与第一输送管连通，灭弧通道包括多个导气流道，多个导气流道依次连通，多个导气流道的延伸方向各不相同以形成具有多个拐点的所述灭弧通道；第二输送管一端与灭弧通道连通，另一端与刻蚀设备的反应腔室连通。以此该供气管路在使用时，工艺气体从气源送出后，在途径灭弧组件时，能够有效减少电弧产生的可能性，且能够抑制已产生的电弧，从而有效减少工艺气体在输送过程中被电离启辉的可能性，确保工艺气体对晶圆的刻蚀效果稳定。
主权项：1.灭弧供气管路，其特征在于，用于为刻蚀设备输的反应腔室5送工艺气体，包括：第一输送管1，一端与气源连通；灭弧组件2，所述灭弧组件2具有灭弧通道，所述灭弧通道与所述第一输送管1的另一端连通，所述灭弧通道包括多个导气流道21，多个所述导气流道21依次连通，多个所述导气流道21的延伸方向各不相同，且相邻两个所述导气流道21的连通处呈折角过渡以形成具有多个拐点的所述灭弧通道；以及第二输送管3，一端与所述灭弧通道远离所述第一输送管1的一端连通，另一端与刻蚀设备的反应腔室5连通。
全文数据：
权利要求：
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