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申请/专利权人：中国人民解放军国防科技大学
摘要：本实用新型公开了一种用于高速流动控制的多腔体高频等离子合成射流激励器，包括壳体以及电极组件；壳体内设有若干互不相通的激励腔，各激励腔呈环形间隔分布在壳体内，且壳体上设有与激励腔连通的射流出口；激励腔内均设有电极组件，电极组件包括阳极、阴极、触发电极，阳极、阴极对向设在激励腔的内壁上，触发电极设在激励腔的内壁上且朝向阳极与阴极之间的位置。本实用新型应用于流动控制领域，可在一个激励腔喷进行气体回填时，使用另外的激励腔进行电弧放电产生高温高速射流，从而缩短射流喷出的间隔时间，提高射流的频率，具有射流频率快、射流速度高、可控性好、边界层穿透能力强等特点，契合高速流动控制应用场景的要求。
主权项：1.一种用于高速流动控制的多腔体高频等离子合成射流激励器，其特征在于，包括壳体以及电极组件；所述壳体内设有若干互不相通的激励腔，各所述激励腔呈环形间隔分布在所述壳体内，且所述壳体上设有与所述激励腔连通的射流出口；每一所述激励腔内均设有所述电极组件，所述电极组件包括阳极、阴极、触发电极，所述阳极、所述阴极对向设在所述激励腔的内壁上，所述触发电极设在所述激励腔的内壁上且朝向所述阳极与所述阴极之间的位置。
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百度查询： 中国人民解放军国防科技大学 用于高速流动控制的多腔体高频等离子合成射流激励器
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