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AlGaN/GaN超晶格电控异质透反射重构器件及制备方法 

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申请/专利权人:西安理工大学

摘要:本发明公开了AlGaNGaN超晶格电控异质透反射重构器件及制备方法,包括衬底,衬底上依次设置有顶层透反射区域、二氧化硅层V、钝化层,衬底上设置有两个隔离区,两个隔离区的顶部贯穿顶层透反射区域,顶层透反射区域上且位于两个隔离区之间设置有P区、N区,二氧化硅层V上且位于P区、N区上方位置设置有合金引线,每个合金引线的顶部均贯穿二氧化硅层V且设置于钝化层内。本发明器件通过引入AlN有源区,形成有源区AlN和AlGaNGaN超晶格区域的异质结构,进一步改善器件透射和反射效率。

主权项:1.AlGaNGaN超晶格电控异质透反射重构器件,其特征在于,包括衬底1,所述衬底1上依次设置有顶层透反射区域4、二氧化硅层V17、钝化层20,所述衬底1上设置有两个隔离区8,两个所述隔离区8的顶部贯穿顶层透反射区域4,所述顶层透反射区域4上且位于两个隔离区8之间设置有P区14、N区16,所述二氧化硅层V17上且位于P区14、N区16上方位置设置有合金引线19,每个合金引线19的顶部均贯穿二氧化硅层V17且设置于钝化层20内。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安理工大学 AlGaN/GaN超晶格电控异质透反射重构器件及制备方法

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