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申请/专利权人：浙江奥首材料科技有限公司
摘要：本发明提供一种高润湿性缓冲氧化物蚀刻液、其制备方法及应用，本发明高润湿性缓冲氧化物蚀刻液包括重量配比如下的各组分：氢氟酸5‑30份；多羟基烷基季铵盐1‑10份；光刻胶保护剂0.1‑1份；增溶剂1‑5份；超纯水20‑60份。本发明还公开了润湿性缓冲氧化物蚀刻液的制备方法，及其在蚀刻晶圆表面氧化硅层领域的应用。本发明含有多羟基烷基季铵盐的高润湿性缓冲氧化物蚀刻液具有高润湿性和较小的表面张力，能实现微细加工和芯片制造中的图案和结构形成，解决现有蚀刻液蚀刻不均匀和蚀刻后图案变形的问题。
主权项：1.一种高润湿性缓冲氧化物蚀刻液，其特征在于，包括重量配比如下的各组分：氢氟酸5-30份；多羟基烷基季铵盐1-10份；光刻胶保护剂0.1-1份；增溶剂1-5份；超纯水20-60份；所述多羟基烷基季铵盐为含氟离子的多羟基烷基季铵盐。
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百度查询： 浙江奥首材料科技有限公司 一种高润湿性缓冲氧化物蚀刻液、其制备方法及应用
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