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存储器及其制造方法、读写方法 

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申请/专利权人:长鑫存储技术有限公司

摘要:本公开实施例提供一种存储器及其制造方法、读写方法,存储器包括:晶体管,包括栅极及沟道层,沟道层包括沿第一方向相对设置的第一表面及第二表面,栅极设置在沟道层的第一表面,第一方向为垂直存储器表面的方向;电荷捕获层,设置在沟道层的第二表面,以在晶体管导通时捕获并存储电荷。本公开实施例提供的存储器在沟道层的第二表面设置电荷捕获层,电荷捕获层作为电子陷阱electrontrap,在晶体管导通时,电荷捕获层会捕获电荷,实现电荷的存储,进而不需要电容器,实现IT0C的存储器结构,且不会存在电容器带来的大功耗及大面积,大大减小了存储器的尺寸及功耗,且制造工艺简单,便于推广应用。

主权项:1.一种存储器,其特征在于,包括:晶体管,包括栅极及沟道层,所述沟道层包括沿第一方向相对设置的第一表面及第二表面,所述栅极设置在所述沟道层的第一表面,所述第一方向为垂直所述存储器表面的方向;电荷捕获层,设置在所述沟道层的第二表面,以在所述晶体管导通时捕获并存储电荷。

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