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申请/专利权人：ASMIP私人控股有限公司
摘要：可以提出一种晶片处理设备。该设备可以包括：晶片支撑件，其设置有用于支撑和加热晶片的加热器；用于封闭和处理晶片的室；用于使气体进入室的喷淋头；用于从室中去除气体的泵送端口；黑壁，其具有提供给泵送端口附近的室的相当高的发射率，并且配置为部分地围绕晶片支撑件；以及白壁，其具有提供给在泵送端口的相对侧上的室的相当低的发射率，并且配置为部分地围绕晶片支撑件。
主权项：1.一种晶片处理设备，包括：晶片支撑件，其设置有用于支撑和加热晶片的加热器；用于封闭和处理晶片的室；用于向室中提供气体的喷淋头；用于从室中去除气体的泵送端口；黑壁，其具有提供给温度相对高于其它区域的室的相当高的发射率，并且配置为部分地围绕晶片支撑件；以及白壁，其具有提供给温度相对低于其它区域的室的相当低的发射率，并且配置为部分地围绕晶片支撑件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASMIP私人控股有限公司 具有膜均匀性改善能力的晶片处理设备
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