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申请/专利权人：广东华升纳米科技股份有限公司
摘要：本发明涉及涂层制备技术领域，提供了一种阴极一体化涂层制备方法、装置以及AlTiN涂层。本发明对基体进行阴极一体化高功率脉冲磁控溅射，得到涂层；所述阴极一体化高功率脉冲磁控溅射的阴极放电方式为高电流、高电压放电；所述高电流、高电压放电的峰值电流为200～2000A，峰值电压为200～2000V，放电波形为方形。本发明提供的制备方法能够实现高离化率，高沉积速率，制备出集AIP优点和MS优点的涂层；且利用该放电特性，容易通过参数的调节实现涂层晶粒尺寸、择优取向和物相结构的调节，进而实现涂层硬度和韧性调节，极大地提升了涂层性能，同时还可针对性调整涂层性能，扩宽工艺窗口。
主权项：1.一种阴极一体化涂层制备方法，其特征在于，包括以下步骤：对基体进行阴极一体化高功率脉冲磁控溅射，得到涂层；所述阴极一体化高功率脉冲磁控溅射的阴极放电方式为高电流、高电压放电；所述高电流、高电压放电的峰值电流为200～2000A，峰值电压为200～2000V，放电波形为方形。
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权利要求：
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