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申请/专利权人：HOYA株式会社
摘要：本发明的目的在于提供一种带多层反射膜的基板，其用于制造具有对曝光光的反射率高、且在缺陷检查时的背景水平低的多层反射膜的反射型掩模坯料及反射型掩模。为此，本发明的带多层反射膜的基板具备用于反射曝光光的多层反射膜，该多层反射膜由在该基板上交替层叠有低折射率层和高折射率层的多层膜构成，上述多层反射膜含有钼Mo、和选自氮N、硼B、碳C、锆Zr、氧O、氢H及氘D中的至少1种添加元素，由基于X射线衍射得到的Mo110的衍射峰计算出的上述多层反射膜的雏晶尺寸为2.5nm以下。
主权项：1.一种带多层反射膜的基板，其具备基板、和用于反射曝光光的多层反射膜，所述多层反射膜在所述基板上，包含交替层叠低折射率层和高折射率层而成的多层膜，其中，所述多层反射膜含有选自氮N、硼B、碳C、锆Zr、氧O、氢H及氘D中的至少1种添加元素，所述多层反射膜的低折射率层中的所述添加元素的含有率高于高折射率层中的所述添加元素的含有率。
全文数据：
权利要求：
百度查询： HOYA株式会社 带多层反射膜的基板、反射型掩模坯料及反射型掩模、以及半导体装置的制造方法
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