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申请/专利权人：日新电机株式会社
摘要：本发明提供一种能够适当地控制荷电粒子的动作的等离子体处理装置。等离子体处理装置1包括处理室2。在处理室2的内部包括：载台3，供作为被处理物的被处理基板H1设置；天线4，用于在处理室2的内部产生感应耦合性的等离子体；以及内部电极8，施加规定的电位。
主权项：1.一种等离子体处理装置，包括处理室，且所述等离子体处理装置中，在所述处理室的内部包括：载台，供被处理物设置；天线，用于在所述处理室的内部产生感应耦合性的等离子体；以及内部电极，施加规定的电位。
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