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申请/专利权人：株式会社德山;国立大学法人大阪大学
摘要：本发明涉及使用保护葡糖酸内酯的C‑芳基羟基糖苷的制造方法。本发明的目的是提供使用保护葡糖酸内酯的C‑芳基羟基糖苷的制造方法。本发明提供使用下述式I表示的保护葡糖酸内酯的C‑芳基羟基糖苷的制造方法。式I中，R表示下述式i所示的基团。式i中，L1、L2及L3各自独立地表示可具有取代基的烷基或可具有取代基的芳基。‑Si‑L1‑L2‑L3i。
主权项：1.制造下述式II表示的C-芳基羟基糖苷II的方法，所述方法包括下述工序：在碱的存在下，使下述式I表示的保护葡糖酸内酯I与下述式III表示的芳基卤III接触后，利用酸进行处理，形成所述C-芳基羟基糖苷II，[化学式1] 式II中，X表示选自由以下的α-1～α-16组成的取代基组α中的取代基：α-1卤素原子、α-2腈基、α-3硝基、α-4氨基、α-5烷基、α-6卤代烷基、α-7单烷基氨基、α-8二烷基氨基、α-9脂环式氨基、α-10烷基氧基羰基、α-11氨基羰基、α-12单烷基氨基羰基、α-13二烷基氨基羰基、α-14脂环式氨基羰基、α-15可被保护基保护的羟基、α-16可被保护基保护的硫醇基，Ar表示下述式ii所示的基团，[化学式2]-W10c-X10ii式ii中，W10表示亚烷基、卤代亚烷基、亚芳基、卤代亚芳基、亚杂芳基、卤代亚杂芳基、酯键、醚键或羰基，c表示0或1，X10表示氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基、或可具有取代基的杂芳基，[化学式3] 式I中，R表示下述式i所示的基团，[化学式4]-Si-L1-L2-L3i式i中，L1、L2及L3各自独立地表示可具有取代基的烷基或可具有取代基的芳基，[化学式5] 式III中，X及Ar的含义与上文相同，Y表示溴原子或碘原子。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社德山 国立大学法人大阪大学 使用保护葡糖酸内酯的C-芳基羟基糖苷的制造方法
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