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申请/专利权人：艾克塞利斯科技公司
摘要：用于离子注入系统的离子源被配置为沿着束线从预定种类形成离子束，其中离子束具有初始能量。减速组件被配置为将离子束减速至小于初始能量的最终能量。工件支撑件被配置为沿着束线在减速组件下游的工件平面支撑工件。束线组件沿着束线定位在减速组件的下游。束线组件具有至少部分地被离子束撞击的特征，并且其中该特征具有相对于离子束具有预定入射角的表面。预定入射角在最终能量下提供离子束的预定溅射率，从而减轻离子种类在束线组件上的沉积。
主权项：1.一种离子注入系统，包括：离子源，其被配置为从包括硼或碳中的一种的预定种类形成初始能量下的离子束，其中所述离子束限定射束路径；减速组件，其沿着所述射束路径设置并被配置为将所述离子束减速至小于所述初始能量的最终能量；工件支撑件，其被配置为在所述减速组件的下游沿着所述射束路径支撑工件；以及束线组件，其沿着所述射束路径定位在所述减速组件的下游，其中所述束线组件限定孔，所述孔被配置为使所述离子束的至少一部分穿过其中，并且其中所述束线组件包括面向上游的表面，所述面向上游的表面不平行于紧邻所述孔的射束路径，其中所述面向上游的表面包括至少部分地被所述离子束撞击的多个特征，以及其中所述多个特征中的每一个包括特征表面，所述特征表面相对于所述射束路径具有预定入射角，以限定所述最终能量下的离子束的预定溅射率，并且其中所述预定溅射率大体上减轻所述预定种类在所述束线组件上的沉积。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 艾克塞利斯科技公司 用于具有专用低溅射率离子束的颗粒控制的高入射角石墨
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