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一种用于硅片的干燥系统 

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申请/专利权人:西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司

摘要:本发明实施例公开了一种用于硅片的干燥系统;所述干燥系统包括:慢提拉槽,用于盛放设定温度的去离子水,以将硅片浸没在所述去离子水中并缓慢提升以使所述硅片表面脱水,从而去除所述硅片表面残留的清洗液及金属离子;气体吹扫装置,用于对从所述慢提拉槽中提拉出的所述硅片表面吹扫氮气以对所述硅片表面进行干燥处理。

主权项:1.一种用于硅片的干燥系统,其特征在于,所述干燥系统包括:慢提拉槽,用于盛放设定温度的去离子水,以将硅片浸没在所述去离子水中并缓慢提升以使所述硅片表面脱水,从而去除所述硅片表面残留的清洗液及金属离子;气体吹扫装置,用于对从所述慢提拉槽中提拉出的所述硅片表面吹扫氮气以对所述硅片表面进行干燥处理;其中,所述气体吹扫装置包括:具有开口的框体,所述框体的开口处设置有风琴罩,用于将所述气体吹扫装置的内部与外部环境进行隔绝;设置于所述框体内的第一驱动模块;与所述第一驱动模块相连接的第一丝杆;机械臂,所述机械臂的端部上设置有与所述第一丝杆相匹配的螺母,以当所述第一驱动模块驱动所述第一丝杆旋转时,所述第一丝杆的旋转运动转换成平移运动从而使得所述机械臂能够在设定的第一双排滑轨上以设定的速度沿所述框体的纵向方向往复移动;其中,所述机械臂上设置有至少一个喷嘴,且所述喷嘴的端部设置有与第二丝杆相匹配的螺母,以当与所述第二丝杆相连接的第二驱动模块驱动所述第二丝杆旋转时,所述第二丝杆的旋转运动转换成平移运动从而使得所述喷嘴能够在设定的第二双排滑轨上沿所述机械臂的纵向方向移动,以使得吹扫气体均匀地被吹扫至所述硅片表面。

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权利要求:

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