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一种降低CHO细胞酸性异构体的组合物及其应用 

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申请/专利权人:苏州依科赛生物科技股份有限公司;上海吉泰依科赛生物科技有限公司

摘要:本发明属于生物技术领域,具体涉及一种降低CHO细胞酸性异构体的组合物及其应用。本发明提出了一种降低CHO细胞酸性异构体的组合物,搭配商业化CHO基础和补料培养基,通过添加组合物,能在流加培养中,减少氧化应激反应的发生,从而降低CHO细胞酸性异构体。本发明含有精氨酸、天冬酰胺、组氨酸、赖氨酸、硒代蛋氨酸、虾青素、芦丁、聚山梨醇酯,在不同的细胞株中,能够不同程度地降低酸性异构体,且不影响细胞的正常培养,及最终的蛋白产量,尤其是硒代蛋氨酸、虾青素、聚山梨醇酯,三者具有协同作用,能够显著降低酸性异构体,可能原因是聚山梨醇酯是一种表面活性剂,能够增强硒代蛋氨酸、虾青素的活性,并维持整体培养的微环境。

主权项:1.一种降低CHO细胞酸性异构体的组合物,其特征在于,包括基础培养基和补料培养基,所述的基础培养基为CHO无血清基础培养基CE02,所述的补料培养基包括补料培养基CA01α和补料培养基CA01β,所述的补料培养基添加有组合物A和组合物B,所述的组合物A由1~6gL精氨酸、1~6gL天冬酰胺、1~6gL组氨酸和1~6gL赖氨酸组成,所述的组合物B由1~3gL硒代蛋氨酸、1~10μgL虾青素、10~500mgL芦丁和0.1~1gL聚山梨醇酯的四种共同组分组成;所述的组合物A和组合物B在所述的补料培养基CA01α的体积添加比例为3~5%,所述的组合物A和组合物B在所述的补料培养基CA01β的体积添加比例为0.3~0.5%。

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权利要求:

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