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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本文提供一种用于基板处理腔室的杂散等离子体预防的设备。在一些实施例中，用于在基板处理腔室中预防杂散等离子体的设备包含：管状主体，所述管状主体由介电材料形成且限定从管状主体的第一端通过管状主体到管状主体的第二端的中心开口；以及轮缘，所述轮缘从管状主体的第一端径向延伸。设备可由工艺兼容的塑料材料形成，诸如聚甲醛POM、聚醚醚酮PEEK、或聚四氟乙烯PTFE。
主权项：1.一种用于处理基板的设备，包括：腔室壁，具有穿过所述腔室壁形成的窗口；在基板处理腔室中预防杂散等离子体的设备，包括：管状主体，所述管状主体由介电材料形成并且限定从所述管状主体的第一端通过所述管状主体到所述管状主体的第二端的中心开口；以及轮缘，所述轮缘从所述管状主体的所述第一端径向延伸；以及插塞，其中所述插塞部分地填充所述窗口，使得所述管状主体的第二端在靠近所述插塞的末端表面处终止。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于基板工艺腔室的杂散等离子体预防设备
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