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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：本发明提供在利用处理流体在腔室内对基板进行处理的基板处理装置中，能够有效防止从密封构件混入的杂质污染基板的技术。腔室100内设置有从腔室外接收处理流体并将其导入处理空间的导入流路17，从开口部观察，导入流路在所述处理空间中比处理空间内的所述基板更靠近里侧的位置开口。在比处理空间内的基板更靠开口部侧的位置，处理空间的顶面与基板保持部15的上表面隔着间隔地彼此平行相向，形成使通过了基板上方的处理流体流通且流路截面形状恒定的上侧流路181。上侧流路与由盖部14、腔室和密封构件16包围形成且流路截面面积大于上侧流路的缓冲空间182相连接，缓冲空间连接有将处理流体向腔室外排出的排出流路183。
主权项：1.一种基板处理装置，利用处理流体对基板的表面进行处理，其中，具有：平板状的基板保持部，能够使所述基板以水平姿势载置于该基板保持部的上表面；腔室，内部具有处理空间且侧面具有开口部，所述处理空间能够容放载置有所述基板的所述基板保持部，所述开口部与所述处理空间连通且能够使所述基板保持部通过；盖部，经由密封构件与所述腔室抵接并封闭所述开口部，所述基板保持部突出设置于所述盖部的腔室侧侧面，所述盖部以使所述基板保持部进入所述处理空间的状态封闭所述开口部，在所述腔室设置有从腔室外接收所述处理流体并将所述处理流体导入所述处理空间的导入流路，从所述开口部观察，所述导入流路在比所述处理空间内的所述基板更靠近里侧的位置在所述处理空间开口，在比所述处理空间内的所述基板更靠所述开口部侧，所述处理空间的顶面与所述基板保持部的上表面隔着间隔地彼此平行相向，形成使通过了所述基板上方的所述处理流体流通且流路截面形状恒定的上侧流路，所述上侧流路与由所述盖部、所述腔室和所述密封构件包围形成且流路截面面积大于所述上侧流路的缓冲空间相连接，所述缓冲空间连接有将所述处理流体向腔室外排出的排出流路。
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