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申请/专利权人：通用电气公司;概念激光有限责任公司

摘要：一种用于增材制造三维物体的构建单元，该构建单元可以包括：能量束系统，其具有分别被构造为将一个或多个能量束引导到粉末床的区域上的一个或多个辐照装置；以及惰性化系统，其包括限定辐照气室的辐照室、一个或多个供应歧管和返回歧管。一个或多个供应歧管可以包括：下流歧管，其被构造为提供通过由辐照室限定的辐照气室的至少一部分的过程气体的向下流；和或横流歧管，其被构造为提供通过由辐照室限定的辐照气室的至少一部分的过程气体的侧向流。返回歧管可以从由辐照室限定的辐照气室排出或以其他方式去除过程气体。在辐照粉末床的区域时，过程气体可以流过一个或多个供应歧管，进入辐照气室，并从辐照气室进入返回歧管。

主权项：1.一种用于增材制造三维物体的构建单元，其特征在于，所述构建单元包括：能量束系统，所述能量束系统包括分别被构造为将一个或多个能量束引导到粉末床的区域上的一个或多个辐照装置；以及惰性化系统，所述惰性化系统包括限定辐照气室的辐照室和一个或多个供应歧管，所述一个或多个供应歧管被构造为在利用位于所述粉末床的所述区域上方的所述构建单元由所述一个或多个能量束辐照所述粉末床的所述区域的同时向所述辐照气室供应过程气体，在由所述一个或多个能量束辐照所述粉末床的所述区域的同时所述过程气体流过所述一个或多个供应歧管并进入所述辐照气室；其中，所述一个或多个供应歧管包括下流歧管，所述下流歧管被构造为提供通过由所述辐照室限定的所述辐照气室的至少一部分的所述过程气体的向下流；其中，所述下流歧管包括下流歧管本体，所述下流歧管本体在所述下流歧管本体内限定一个或多个下流歧管路径，所述下流歧管本体包括一个或多个顶部下流歧管壁、一个或多个底部下流歧管壁和一个或多个向内下流歧管壁，所述一个或多个顶部下流歧管壁朝向所述能量束系统定向，所述一个或多个底部下流歧管壁朝向所述辐照气室定向，所述一个或多个向内下流歧管壁限定与相对于所述粉末床的所述辐照气室的远端部分重合的光学气室，其中，所述一个或多个向内下流歧管壁从所述一个或多个顶部下流歧管壁中的至少一个延伸到所述一个或多个底部下流歧管壁中的至少一个；并且其中，所述一个或多个向内下流歧管壁相对于所述下流歧管本体的纵向轴线以发散角设置，使得从所述纵向轴线到相应的向内下流歧管壁的距离随着所述相应的向内下流歧管壁越来越靠近所述粉末床而增加；其中，所述一个或多个向内下流歧管壁包括多个下流歧管孔口，所述多个下流歧管孔口在所述光学气室和由所述下流歧管本体限定的一个或多个下流歧管路径之间流体连通，所述多个下流歧管孔口提供流场，所述流场以定向为平行于所述下流歧管本体的所述纵向轴线的向下方向矢量，或在平行于所述下流歧管本体的所述纵向轴线的10度内离开所述多个下流歧管孔口。

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