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申请/专利权人：中国科学院光电技术研究所
摘要：本发明公开了一种用于透明基底的双面光刻方法。该方法通过DMD数字微镜加载编码后的图案，入射激光经DMD数字微镜后入射到透镜和加载有二次扭曲光栅的SLM液晶空间光调制器组成的成像系统，该成像系统可使不同的衍射级次具有不同的焦距，即可以在透明基底的上下表面同时实现图案化曝光。本发明提出的光刻方法能够进行双面同时光刻，且可以拓展延伸至多面光刻，同时由于光刻图案和二次光栅都是数字化的，既可根据基底的厚度来设置SLM液晶空间光调制器上二次光栅的参数和DMD数字微镜上的图案间隔，对任意透明基底都能够快速的进行调整，又可以方便快捷的更改曝光图案。
主权项：1.一种用于透明基底的双面光刻方法，其特征在于：该方法的步骤如下：步骤一：在一张图中设计出待曝光到透明基底209上下两面的两个图案，并间隔一定的间距；步骤二：将图案进行编码并加载到DMD数字微镜203上对入射激光进行调制，以达到图案化光场的效果；步骤三：将被调制的激光入射到第一Tube透镜204、第三Tube透镜207、第二Tube透镜206与加载有经过编码的二次扭曲光栅的SLM液晶空间光调制器208组成的成像系统，对单平面的像进行不同衍射级次的分离；步骤四：从成像系统出射的光入射到透明基底209上，由于其不同的衍射级次具有不同的焦距，可以对上下两面分别进行图案化曝光。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院光电技术研究所 一种用于透明基底的双面光刻方法
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