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申请/专利权人：武汉梵佳鑫科技有限公司
摘要：本发明公开了一种退镀开发用的铬蚀刻液，通过将退镀活性成分、金属化合物、长链化合物、分散剂、助剂、去离子水混合制备得到退镀开发用的铬蚀刻液，该蚀刻液能够有效将铬镀层软化、溶解，而且能够渗入到镀层与工件之间的细微孔隙中，进一步促进镀层与工件分离，且不会影响对其的蚀刻作用，同时该蚀刻液对工件的蚀刻精度和蚀刻均匀性控制有了显著提升，所得产品的效果佳。而且对底材物质的腐蚀性极小，而且加快了蚀刻速度，在蚀刻过程中不会出现沸腾飞溅、剧烈放热的现象，而且蚀刻液的稳定性好，有效性期限长，能够广泛用于锈钢、PET、AC、PC、玻璃等多种底材镀膜层在黄光制程工艺。
主权项：1.一种退镀开发用的铬蚀刻液，其特征在于，按重量百分比计，其制备原料包括：2～10％退镀活性成分、0.2～2％金属化合物、0.5～3％长链化合物、0.8～4.5％分散剂、1～5％助剂、去离子水余量；所述退镀活性成分为高锰酸钾、硝酸、甲基磺酸和硅酸钠；所述高锰酸钾、硝酸、甲基磺酸和硅酸钠的重量比为2～4：1～2.5：1：1～2；所述金属化合物为硝酸铈铵和氯化镧；所述硝酸铈铵和氯化镧的质量比为1～2：1；所述长链化合物为仲烷基磺酸钠和C8-10醇聚氧乙烯醚；所述仲烷基磺酸钠和C8-10醇聚氧乙烯醚的质量比为1：0.85～2.1；所述C8-10醇聚氧乙烯醚的羟值为200～300mgKOHg，1％水溶液的pH为4.5～7.0。
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权利要求：
百度查询： 武汉梵佳鑫科技有限公司 一种退镀开发用的铬蚀刻液及其应用
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