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申请/专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
摘要：本发明提供了一种监控波像差的方法，通过收集测试掩膜对应的曝光后的CD值及CD偏差来获得波像差补偿值，并将获得的波像差补偿值反馈给成像系统进行修正，而采用的测试掩膜包括多个掩膜图形，每个掩膜图形包括多个掩膜子图形，每个掩膜子图形包括多个横向图形和多个纵向图形，多个横向图形和多个纵向图形均呈环状阵列分布。由于每个掩膜子图形中的多个横向图形和多个纵向图形均呈环状阵列分布，因此本发明能从多个角度监控波像差差异，并反馈给成像系统进行修正，可以获得理想的波前成像。
主权项：1.一种监控波像差的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：基于当前成像系统，收集波像差数据以及当前掩膜对应的曝光后的CD偏差数据，并计算出波像差和CD偏差之间的对应关系；步骤S2：基于当前成像系统，收集测试掩膜对应的曝光后的CD值及CD偏差，所述测试掩膜包括多个掩膜图形，每个所述掩膜图形包括多个掩膜子图形，每个所述掩膜子图形包括多个横向图形和多个纵向图形，所述多个横向图形和所述多个纵向图形均呈环状阵列分布；步骤S3：利用计算出的所述波像差和CD偏差之间的对应关系，将所述测试掩膜对应的CD偏差转化成波像差，获得波像差补偿值；步骤S4：将所述波像差补偿值反馈给当前成像系统，并对所述当前成像系统进行修正，获得修正后的成像系统；步骤S5：基于所述修正后的成像系统，收集所述测试掩膜对应的曝光后的CD值及CD偏差，若所述CD偏差在预设范围内，则修正结束；若CD偏差超过预设范围，则返回步骤S3，且基于所述修正后的成像系统收集到的所述测试掩膜对应的曝光后的CD偏差作为下一循环的步骤S3中的测试掩膜对应的CD偏差。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥晶合集成电路股份有限公司 监控波像差的方法
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