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一种真空坩埚旋转下降法晶体生长炉 

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申请/专利权人:福州克雷斯试验设备有限公司

摘要:本实用新型涉及一种真空坩埚旋转下降法晶体生长炉,包括生长炉本体、固定箱和调节机构,所述生长炉本体的底部固定安装有底座;所述调节机构包括固定安装于固定箱底部中间的活动杆,所述固定箱内腔底部的中间活动安装有一端延伸至活动杆内部的螺纹杆。该真空坩埚旋转下降法晶体生长炉,通过设置调节机构,在需要旋转生长炉本体时,启动气杆使齿块与齿轮三分离,启动伺服电机二即可经由齿轮二和齿轮一带动生长炉本体旋转,在需要调节生长炉本体的高度时,使齿块与齿轮三卡接,再启动伺服电机二,活动杆即会在齿块限位的作用下经由底座带动生长炉本体向上或向下移动,进而配合加热块在不同位置形成高温区、梯度区和低温区。

主权项:1.一种真空坩埚旋转下降法晶体生长炉,包括生长炉本体1、固定箱2和调节机构,其特征在于:所述生长炉本体1的底部固定安装有底座3,所述生长炉本体1和固定箱2均位于固定箱2的顶部,所述固定箱2顶部的左右两侧均固定安装有固定杆4,所述固定杆4相对一侧之间的顶部固定安装有加热块5;所述调节机构包括固定安装于固定箱2底部中间的活动杆6,所述固定箱2内腔底部的中间活动安装有一端延伸至活动杆6内部的螺纹杆7,所述螺纹杆7外表面的底部固定安装有齿轮一8,所述固定箱2内部的左侧固定安装有伺服电机二9,所述伺服电机二9的输出轴固定安装有与齿轮一8啮合的齿轮二10,所述活动杆6外表面的底部固定安装有齿轮三11,所述固定箱2内腔的右侧壁固定安装有气杆12,所述气杆12的输出轴固定安装有齿块13。

全文数据:

权利要求:

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