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申请/专利权人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
摘要：本申请公开了一种单层TMDC二维材料及其制备方法，制备方法包括在衬底表面形成薄层TMDC材料，得到预处理样品；将预处理样品放置在超高真空环境中，导入飞秒激光辐射预处理样品以使薄层TMDC材料解离，得到单层TMDC二维材料。本申请利用飞秒激光对薄层TMDC材料进行解离，能够制备高质量单层TMDC二维材料；在飞秒激光辐射时，采用荧光显微镜和拉曼光谱仪实时监测，能够保证制备的单层TMDC二维材料的质量；在飞秒激光辐射过程中，可基于荧光显微镜和拉曼光谱仪的实时检测结果，调节发射飞秒激光的飞秒激光解离模块的功率和时域分布，有助于精准地控制TMDC材料的解离过程，保证单层TMDC材料的质量；在超高真空环境下进行飞秒激光辐射，能有效避免空气的吸附。
主权项：1.一种单层TMDC二维材料的制备方法，其特征在于，包括：在衬底表面形成薄层TMDC材料，得到预处理样品；将所述预处理样品放置在超高真空环境中，导入飞秒激光辐射所述预处理样品以使所述薄层TMDC材料解离，得到单层TMDC二维材料。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 单层TMDC二维材料及其制备方法
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