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三维存储器及其制备方法、存储系统及电子设备 

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申请/专利权人:长江存储科技有限责任公司

摘要:本公开提供了一种三维存储器及其制备方法、存储系统及电子设备,涉及半导体芯片技术领域。该三维存储器包括堆叠结构、刻蚀停止层、保护层和多个连接柱,堆叠结构包括交替设置的栅极层和介质层;堆叠结构包括多级台阶;刻蚀停止层设置于台阶上;保护层覆盖堆叠结构和刻蚀停止层;连接柱贯穿保护层及对应的台阶上的刻蚀停止层,与对应的台阶的栅极层电连接。

主权项:一种三维存储器,包括:堆叠结构,所述堆叠结构包括交替设置的栅极层和介质层;所述堆叠结构包括多级台阶;刻蚀停止层,设置于所述多级台阶上;保护层,覆盖所述堆叠结构和所述刻蚀停止层;和多个连接柱,每一所述连接柱贯穿所述保护层及对应的台阶上的所述刻蚀停止层,与对应的台阶的栅极层连接。

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权利要求:

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