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Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂、制备方法和应用 

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申请/专利权人:苏州云达诣能源科技有限公司

摘要:本发明公开一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,由按重量百分比计的以下组分组成:金字塔塔尖保护剂0.02~1%;葡萄糖酸钠0.05~1.4%;氢氧化钠1~3%;水杨酸0.5~2%;1,6‑己二醇0.01~0.1%;琼脂糖0.01~1.5%;脂肪醇聚氧乙烯醚0.01~0.1%;去离子水90~95%;所述金字塔塔尖保护剂为多糖。本发明还公开了上述刻蚀剂的制备方法和在制绒刻蚀方面的具体应用方法。本发明采用了金字塔塔尖保护剂和醚类的表面活性剂,不仅腐蚀出的金字塔结构更加均匀,反射率较低,而且可以有效的保护塔尖不受到过度的腐蚀,尤其降低了后面镀膜工艺色差不良率。

主权项:1.一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,由按重量百分比计的以下组分组成:金字塔塔尖保护剂0.02~1%;葡萄糖酸钠0.05~1.4%;氢氧化钠1~3%;水杨酸0.5~2%;1,6-己二醇0.01~0.1%;琼脂糖0.01~1.5%;脂肪醇聚氧乙烯醚0.01~0.1%;去离子水90~95%;所述金字塔塔尖保护剂为多糖。

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