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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：本发明提供一种被配置成将浸没流体限制至光刻设备的区域的流体处置结构，所述流体处置结构包括：孔，所述孔在所述流体处置结构中形成以使辐射束经由所述浸没流体行进通过所述孔，所述孔限定将要填充有所述浸没流体的浸没空间；以及内部部分和外部部分；其中所述内部部分和所述外部部分被布置以便在所述内部部分与所述外部部分之间形成可变空间和连接空间，所述连接空间将所述可变空间连接至所述浸没空间，其中在第一平面中所述外部部分相对于所述内部部分是可移动的，以便改变所述可变空间而不是所述连接空间的形状，并且其中所述流体处置结构被配置成在所述可变空间中包含所述浸没流体。
主权项：1.一种流体处置结构，所述流体处置结构被配置成将浸没流体限制至光刻设备的区域，所述流体处置结构包括：孔，所述孔形成在所述流体处置结构中以使辐射束经由浸没流体从所述孔中通过，所述孔限定待填充有浸没流体的浸没空间；和内部部分和外部部分；其中所述内部部分和所述外部部分被布置为在所述内部部分与所述外部部分之间形成可变空间和连接空间，所述连接空间将所述可变空间连接至所述浸没空间，并且所述连接空间设置有泄露密封，使得所述浸没流体被允许从所述浸没空间通过所述连接空间泄露到所述可变空间，并且其中所述外部部分能够在第一平面中相对于所述内部部分移动，以便改变所述可变空间的形状。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 流体处置结构、光刻设备、以及使用流体处置结构的方法
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