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申请/专利权人：周星工程股份有限公司
摘要：本发明关于一种基板处理设备以及一种制造金属氧化物半导体的方法，其中，基板处理设备包括：腔体、设置在腔体中的基板支撑单元以及设置在基板支撑单元上方的喷射单元。
主权项：1.一种基板处理设备，包括：腔体；基板支撑单元，设置在所述腔体中；喷射单元，设置在所述基板支撑单元上方；第一源气供应单元，用于供应第一源气体；第二源气供应单元，用于供应第二源气体；第一供应线路，连接所述第一源气供应单元与所述喷射单元；第二供应线路，连接所述第二源气供应单元与所述喷射单元；混合单元，安装在所述第一供应线路中并设置在所述第一源气供应单元与所述喷射单元之间；第一连接线路，连接所述第二供应线路与所述第一供应线路和所述混合单元中至少一者；以及第一路径变换单元，安装在所述第一连接线路与所述第二供应线路连接的第一连接点，其中，所述第一路径变换单元改变所述第二源气体的流动路径，使得从所述第二源气供应单元供应的所述第二源气体被供应至选自所述混合单元和所述喷射单元中的一者。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 周星工程股份有限公司 基板处理设备及制造金属氧化物半导体的方法
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