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申请/专利权人：闽都创新实验室;中国科学院福建物质结构研究所
摘要：本发明公开了一种多色钙钛矿量子点图案化薄膜制备方法及应用。该方法通过混合卤素钙钛矿前驱体在PVDF聚合物中原位制备纯红光的钙钛矿量子点PVDF复合薄膜，并通过热退火工艺提升其发光效率和稳定性。利用掩模版对薄膜进行选择性紫外线曝光，利用混合卤素钙钛矿量子点光诱导相分离现象，实现曝光区域由红光转变为绿光，从而获得多色的钙钛矿量子点PVDF复合薄膜。本发明的制备方法简单、高效，可广泛应用于光电器件、显示器件等领域。
主权项：1.一种多色钙钛矿量子点图案化薄膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：钙钛矿前驱体溶液制备将CsI、DMAPbBr3和DMAPbI3钙钛矿前驱体与PVDF粉末溶解于由N,N-二甲基甲酰胺（DMF）与二甲亚砜（DMSO）组成的混合溶剂中，并向混合溶剂中添加配体，得到钙钛矿前驱体溶液；步骤2：CsPbBrI3PVDF复合膜合成将步骤1制备的钙钛矿前驱体溶液，通过刮涂、旋涂或喷墨打印方法均匀涂覆于玻璃基板表面，形成透明且厚度均匀的薄膜；然后在10~80℃空气环境中，通过蒸发溶剂并原位生长CsPbBrI3量子点，处理3~480分钟，得到橙黄色CsPbBrI3PVDF复合膜；步骤3：热退火处理将步骤2所得复合膜连同玻璃基板放置于加热台上，按照预设加热温度和加热时间进行精确热退火处理，形成红色CsPbBrI3PVDF复合薄膜，之后从玻璃基板上剥离；优选地，CsPbBrI3PVDF复合薄膜的厚度为2~10微米；步骤4：多色图案化利用光掩模技术，对复合薄膜进行选择性曝光，通过对准和曝光控制，使得复合薄膜暴露于功率密度1~10000mWcm-3、波长为254~405nm的单色光或者连续可见光光源下，曝光时长在1至1000小时范围内可调，以满足不同图案分辨率和颜色深浅的需求；通过光诱导混合卤素相分离反应，引发薄膜内部的结构演变，从而在复合薄膜上精准构建具有多种颜色的钙钛矿量子点图案。
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权利要求：
百度查询： 闽都创新实验室 中国科学院福建物质结构研究所 一种多色钙钛矿量子点图案化薄膜制备方法及应用
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