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申请/专利权人:长沙韶光芯材科技有限公司
摘要:本发明涉及磁控溅射镀膜技术领域,具体涉及一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,该方法基于磁靶间距的不同会影响靶材表面磁场分布的特点,对每个磁靶间距下的电子云光谱数据进行分析,根据靶材元素光谱强度和工艺气体元素光谱强度之间的相对浓度时序变化稳定性,对每个磁靶间距下的等离子稳定系数进行确定,从而筛选出对应的等离子体稳定性更好的最优磁靶间距,进一步地根据最优磁靶间距进行玻璃基板镀膜位置调整,使得通过磁控溅射镀膜方法进行玻璃基板镀膜的稳定性和准确性更好。
主权项:1.一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述方法包括:以玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时,采集每个采样时刻下的电子云光谱数据曲线;根据所述电子云光谱数据曲线进行基线预处理,确定光谱峰邻域数据点序列;基于靶材元素和工艺气体元素对应的所有标准波长对所有的光谱峰邻域数据点序列进行匹配,确定匹配结果中每个标准波长对应的光谱峰邻域匹配序列;根据靶材元素对应的所有标准波长的光谱峰邻域匹配序列的光谱强度分布情况,确定每个采样时刻下的靶材元素光谱强度;确定每个采样时刻下的工艺气体元素光谱强度;根据所述靶材元素光谱强度和所述工艺气体元素光谱强度,确定每个磁靶间距在每个采样时刻下的元素浓度相对系数;根据元素浓度相对系数的时序变化稳定情况,确定玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时的等离子稳定系数;根据所有磁靶间距对应的等离子稳定系数,筛选出最优磁靶间距;根据最优磁靶间距进行玻璃基板镀膜位置调整。
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