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申请/专利权人：合肥睿翼创智技术开发有限公司
摘要：本发明的一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法、设备及存储介质，包括根据构建帧化矩形，反向倾斜待曝光图形副本，按反倾斜方向和轴向步长改变帧化矩形的位置，按空间光调制器的像方像素精度在帧化矩形内进行多边形填充，得到帧图像。本发明利用待曝光图形的反倾斜后与帧化窗口之间的特殊关系，构造出轴对齐的帧化窗口，利用成熟的填充算法进行帧图像的构造，加速了帧化的处理效率。减少了中间栅格化条带图形，倾斜条带图像处理步骤，减少了中间数据的生成和传输时间，也提高了单次曝光中从图形变换到开始曝光过程的等待时间；通过本发明的实施，不仅减少主机硬件的投入，也将极大提高曝光的响应时间。
主权项：1.一种无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法，其特征在于，包括以下步骤，S1：根据给定的扫描倾斜角度，构造反倾斜旋转变换矩阵；S2：根据反倾斜旋转变换矩阵，旋转给定的待曝光条带图形、帧化起点位置和帧化截止位置，得到旋转后的待曝光条带图形、帧化起点位置和帧化截止位置；S3：根据上述的旋转后的帧化起点位置和曝光空间光调制器的配置，构造帧化起点位置的帧化矩形；S4：通过帧化矩形对旋转后待曝光条带图形截窗，得到截窗图形集，利用所得的截窗图形集按空间光调制器的像方像素精度进行帧填充处理，得到帧图像；S5：更新帧化矩形；S6：重复上述S3、S4、S5过程，直至帧化结束。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥睿翼创智技术开发有限公司 无掩膜光刻的反倾斜直接帧化方法、设备及存储介质
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