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申请/专利权人：上海大学
摘要：本发明公开了一种氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜及其制备方法，属于合金材料及其制备技术领域。以含氧的CrCoNiO预合金化靶材为原料进行溅射，通过溅射参数的控制，得到氧原子掺杂量为12.5at.％的氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜。该CrCoNiO12.5薄膜能够在保持纳米晶高强度的同时获得超过50％压缩塑性而不在形变过程中产生任何剪切带。
主权项：1.一种氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜，其特征在于，氧原子的掺杂量为12.5at.％；所述氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜由宽度3nm、长度34nm的枝晶构成，所述枝晶为FCC+HCP双相结构，内部包含大量的层错和孪晶；所述氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜利用磁控溅射制备得到；所述磁控溅射过程中使用的靶材为含氧的CrCoNiO预合金化靶材。
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百度查询： 上海大学 一种氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜及其制备方法
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