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一种互补式人工突触阵列及其电流体喷印制备方法 

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申请/专利权人:华中科技大学

摘要:本发明属于柔性微电子器件制备相关技术领域,其公开了一种互补式柔性人工突触阵列及其电流体喷印制备方法,包括以下步骤:1在亲水处理后的透明基底上制备聚酰亚胺层;2在聚酰亚胺层上制备氧化铟锡调节层;3氧化铟锡调节层上沉积金属纳米线;4采用热辅助电流体喷印纺丝方式在在金属纳米线的相应位置沉积底层有机聚合物电极;5在底层有机聚合物电极上自下而上依次沉积下层有机阻变层、中间层有机聚合物电极、上层有机阻变层;6采用热辅助电流体喷印纺丝方式在每排上层有机阻变层上制备顶层有机聚合物电极,继而得到互补式柔性人工突触阵列。本发明实现了柔性人工突触结构的大规模快速制备,并克服了漏电流问题。

主权项:1.一种互补式柔性人工突触阵列的电流体喷印制备方法,其特征在于,该制备方法包括以下步骤:1对透明基底进行亲水处理,并在所述透明基底上制备聚酰亚胺层;2在所述聚酰亚胺层上制备氧化铟锡调节层;3采用电流体喷印纺丝方式在氧化铟锡调节层上沉积金属纳米线;4采用热辅助电流体喷印纺丝方式在在金属纳米线的相应位置沉积底层有机聚合物电极;5采用电流体喷印均匀镀膜工艺在底层有机聚合物电极上自下而上依次沉积下层有机阻变层、中间层有机聚合物电极、上层有机阻变层,多个所述下层有机阻变层沿垂直于所述金属纳米线的方向间隔排列成一排,多排所述下层有机阻变层沿所述金属纳米线的长度方向间隔设置;6采用热辅助电流体喷印纺丝方式在每排上层有机阻变层上制备顶层有机聚合物电极,继而剥离聚酰亚胺层以得到互补式柔性人工突触阵列。

全文数据:

权利要求:

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