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申请/专利权人：江苏福拉特自动化设备有限公司

摘要：本发明公开了一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统及清洗方法，包括掩模版上料机构，掩模版上料机构用于将待清洗掩模版上料输送至下一清洗工序；掩模版清洗机构，掩模版清洗机构用于接收掩模版上料机构上料的待清洗掩模版，并对待清洗掩模版进行多阶段、多层次清洗，获得洗净后的掩模版；掩模版下料机构，掩模版下料机构用于将洗净后的掩模版输送至下一工序，本发明能够对不同膜材的掩膜版进行清洗，并结合多种清洗方式，对掩膜版的表面、内层进行有效清洗，根据需求定制多频段超声波全面幅频率，分区间分阶段去除不同粒径异物，全面提升掩膜版的清洗效果，解决异物残留造成掩膜版不良的问题，提高掩膜版的产品质量。

主权项：1.一种MicroOLED高精度蒸镀掩模版多阶段清洗系统，其特征在于，包括掩模版上料机构（1），所述掩模版上料机构（1）用于将待清洗掩模版上料输送至下一清洗工序；掩模版清洗机构（2），所述掩模版清洗机构（2）用于接收所述掩模版上料机构（1）上料的待清洗掩模版，并对待清洗掩模版进行多阶段、多层次清洗，获得洗净后的掩模版；掩模版下料机构（3），所述掩模版下料机构（3）用于将洗净后的掩模版输送至下一工序；所述掩模版清洗机构（2）包括掩模版悬臂输送清洗单元（201），所述掩模版悬臂输送清洗单元（201）用于对悬臂输送单元（207）进行清洗和干燥处理；掩模版有机膜材清洗区（202），所述掩模版有机膜材清洗区（202）包括第一有机膜材清洗单元（2021）、第二有机膜材清洗单元（2022）、第一快排冲洗单元（2023）和第一漂洗单元（2024），所述第一有机膜材清洗单元（2021）、所述第二有机膜材清洗单元（2022）、所述第一快排冲洗单元（2023）和所述第一漂洗单元（2024）依次设置；掩模版金属膜材清洗区（203），所述掩模版金属膜材清洗区（203）包括金属清洗单元（2031）和第二快排冲洗单元（2032），所述金属清洗单元（2031）和所述第二快排冲洗单元（2032）依次设置；掩模版氧化物膜材清洗区（204），所述掩模版氧化物膜材清洗区（204）包括金属氧化物清洗单元（2041）和第三快排冲洗单元（2042），所述金属氧化物清洗单元（2041）和所述第三快排冲洗单元（2042）依次设置；掩模版浸润深度清洗区（205），所述掩模版浸润深度清洗区（205）包括第二漂洗单元（2051）、微粒去除清洗单元（2052）、第四快排冲洗单元（2053）和第三漂洗单元（2054），所述第二漂洗单元（2051）、所述微粒去除清洗单元（2052）、所述第四快排冲洗单元（2053）和所述第三漂洗单元（2054）依次设置；掩模版去水干燥区（206），所述掩模版去水干燥区（206）包括第一干燥单元（2061）和第二干燥单元（2062），所述第一干燥单元（2061）和所述第二干燥单元（2062）依次设置；悬臂输送单元（207），所述悬臂输送单元（207）包括第一悬侧搬送单元（2071）、第二悬侧搬送单元（2072）和第三悬侧搬送单元（2073），所述第一悬侧搬送单元（2071）设置在所述掩模版悬臂输送清洗单元（201）和所述掩模版浸润深度清洗区（205）之间，所述第二悬侧搬送单元（2072）设置在所述掩模版浸润深度清洗区（205）和所述掩模版去水干燥区（206）之间，所述第三悬侧搬送单元（2073）设置在所述掩模版去水干燥区（206）和所述掩模版下料机构（3）之间。

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