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红外光电器件及其制备方法与硅基光电集成芯片 

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申请/专利权人:中国科学院半导体研究所

摘要:本发明提供了一种红外光电器件及其制备方法与硅基光电集成芯片。红外光电器件包括:衬底,所述衬底上形成有p型掺杂区和n型掺杂区,其中,所述p型掺杂区与所述n型掺杂区不接触;单晶窄带隙材料台面,设置于所述衬底的上表面,且位于所述p型掺杂区和所述n型掺杂区之间,其中,所述单晶窄带隙材料台面用以控制所述p型掺杂区和所述n型掺杂区之间载流子的流动方向,从而在所述单晶窄带隙材料台面中形成从所述n型掺杂区指向所述p型掺杂区的电场。

主权项:1.一种红外光电器件,其特征在于,包括:衬底,所述衬底上形成有p型掺杂区和n型掺杂区,其中,所述p型掺杂区与所述n型掺杂区不接触;单晶窄带隙材料台面,设置于所述衬底的上表面,且位于所述p型掺杂区和所述n型掺杂区之间,其中,所述单晶窄带隙材料台面用以控制所述p型掺杂区和所述n型掺杂区之间载流子的流动方向,从而在所述单晶窄带隙材料台面中形成从所述n型掺杂区指向所述p型掺杂区的电场。

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权利要求:

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