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申请/专利权人：北京华卓精科科技股份有限公司;北京优微精密测控技术研究有限公司
摘要：本发明提供了一种位移测量系统和光刻设备，涉及光栅测量技术领域，包括光栅安装板以及沿第一方向依次设置在光栅安装板上的曝光位光栅和预处理位光栅，曝光位光栅和预处理位光栅分别包括一回字型光栅；还包括工件台以及间隔设置在工件台表面的探测机构，工件台与光栅安装板沿第二方向间隔设置，探测机构与曝光位光栅和预处理位光栅配合，用于提供位移测量系统的测量基准；第一方向与第二方向垂直，曝光位光栅和预处理位光栅分别包括一回字型光栅，当工件台沿第一方向由预处理位向曝光位换台操作时，探测机构仅需要经过曝光位光栅和预处理位光栅之间的一个狭缝，切换时通过相对简单的解算过程即可完成测量，简化了平面光栅测量系统边缘切换。
主权项：1.一种位移测量系统，其特征在于，包括光栅安装板300以及沿第一方向依次设置在所述光栅安装板300上的曝光位光栅120和预处理位光栅110，所述曝光位光栅120和所述预处理位光栅110分别包括一回字型光栅；所述位移测量系统还包括工件台200以及间隔设置在所述工件台200表面的探测机构，所述工件台200与所述光栅安装板300沿第二方向间隔设置，所述探测机构与所述曝光位光栅120和预处理位光栅110配合，用于提供所述位移测量系统的测量基准；所述第一方向与所述第二方向垂直；所述探测机构包括四个探测器210，所述工件台200为矩形结构，所述矩形结构的每个角设置有一个所述探测器210，四个所述探测器210在所述第一方向上的投影不重合；当一个探测器210处于无效区域时，无法接收到平面光栅的衍射回光，只能凭借其它探测器210的位移测量值，解算出六自由度位移，不同探测器210陆续经过无效区域，需要不断切换解算所需的测量值。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京华卓精科科技股份有限公司 北京优微精密测控技术研究有限公司 位移测量系统及光刻设备
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