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申请/专利权人：麦斯克电子材料股份有限公司
摘要：一种保持研磨液均匀的12寸晶圆研磨抛光系统，包括研磨液配置房、多个硅片研磨抛光机、主管路及子管路，任一子管路均包括两根并联支管，同一子管路中的两根并联支管通过进液三通阀与主管路相连，并通过排液三通阀与硅片研磨抛光机相连，任一并联支管上均设有用于过滤研磨液中的大颗粒沉淀物的过滤网，过滤框架沿横向可抽插连接在并联支管上，筛网覆盖并联支管的内腔；并联支管路上还设有检测元件，检测元件用于检测自身内部研磨液因过滤网拦截大颗粒沉淀物而导致的堵塞程度，以供人员根据堵塞程度切换并联支管向硅片研磨抛光机供应研磨液。本实用新用于控制进入硅片抛光研磨机的研磨液的均匀度以维持抛光研磨质量。
主权项：1.一种保持研磨液均匀的12寸晶圆研磨抛光系统，包括研磨液配置房和多个硅片研磨抛光机，研磨液配置房设有串联所有硅片研磨抛光机的主管路1，主管路1上接近所有硅片研磨抛光机的位置分别设有用于向对应的硅片研磨抛光机供应研磨液的子管路7，其特征在于：任一子管路7均包括两根并联支管5，同一子管路7中的两根并联支管5通过进液三通阀2与主管路1相连，并通过排液三通阀6与硅片研磨抛光机相连，任一并联支管5上均设有用于过滤研磨液中的大颗粒沉淀物的过滤网4，过滤网4具有过滤框架403和位于过滤框架403中的筛网401，过滤框架403沿横向可抽插连接在并联支管5上，筛网401覆盖并联支管5的内腔以阻挡主管路1中的大颗粒沉淀物进入硅片研磨抛光机；并联支管5路上还设有检测元件，检测元件用于检测自身内部研磨液因过滤网4拦截大颗粒沉淀物而导致的堵塞程度，以供人员根据堵塞程度切换并联支管5向硅片研磨抛光机供应研磨液。
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