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申请/专利权人：无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司

摘要：本发明公开了一种晶圆蚀刻辅助装置，涉及晶圆蚀刻技术领域，包括主体机构，所述主体机构包括支撑台，所述支撑台的上表面分别固定连接有溶液浸泡箱和冲洗箱，所述支撑台的底面固定连接有四个支撑柱，所述支撑台的上方设置有辅助机构，所述辅助机构包括浸入单元，所述浸入单元位于溶液浸泡箱的内部，所述浸入单元用于对晶圆表面进行浸泡去污，此晶圆蚀刻辅助装置，通过设置浸入单元，能够方便将晶圆与化学溶液进行反应，方便化学溶剂与晶圆表面残留污染物进行反应，可以根据晶圆表面污染物的不同方便使用不同的化学溶剂，相对于大型自动化清洗设备来说造价以及维护成本比较低，适用于小批量晶圆、特殊工艺或研发阶段的晶圆进行使用。

主权项：1.一种晶圆蚀刻辅助装置，包括主体机构（1），其特征在于：所述主体机构（1）包括支撑台（11），所述支撑台（11）的上表面分别固定连接有溶液浸泡箱（12）和冲洗箱（13），所述支撑台（11）的底面固定连接有四个支撑柱（14），所述支撑台（11）的上方设置有辅助机构（2）；所述辅助机构（2）包括浸入单元（21），所述浸入单元（21）位于溶液浸泡箱（12）的内部，所述浸入单元（21）用于对晶圆表面进行浸泡去污；所述辅助机构（2）还包括冲洗单元（22），所述冲洗单元（22）位于冲洗箱（13）的内部，所述冲洗单元（22）与浸入单元（21）配合使用，所述冲洗单元（22）用于对晶圆表面进行冲洗烘干；所述冲洗单元（22）的外侧设置有调位机构（3），所述调位机构（3）与辅助机构（2）配合使用，所述调位机构（3）用于对晶圆位置进行调节；所述浸入单元（21）包括顶架板（2112），所述顶架板（2112）的内壁与溶液浸泡箱（12）的左右两侧面通过螺栓固定连接，所述顶架板（2112）的内壁固定连接有电动伸缩杆（2104），所述电动伸缩杆（2104）的伸缩端固定连接有浸入壳（2117），所述浸入壳（2117）的内部滑动连接有浸抽架（2120），所述浸抽架（2120）的内壁固定连接有三个内接板（2119），每个所述内接板（2119）的内壁固定连接有定位架（2118），每个所述内接板（2119）的内部均卡接有限位板（2121），每个所述限位板（2121）的底面均固定连接有若干个定位脚（2122），每个所述限位板（2121）的底面均与定位架（2118）的上表面相接触，所述溶液浸泡箱（12）的背面固定连通有连通管（2124），所述溶液浸泡箱（12）的内部开设有加热腔（2126），所述加热腔（2126）的内壁固定连接有加热丝（2125），所述顶架板（2112）的内壁固定连接有四个溶液箱（2103），每个所述溶液箱（2103）的上表面均固定连通有注液管（2105），每个所述注液管（2105）的顶端均贯穿至溶液浸泡箱（12）的上方，每个所述溶液箱（2103）的底面均固定连通有排液管（2116），每个所述排液管（2116）的外表面均固定连通有阀门（2115），所述支撑台（11）的上表面固定连接有储水箱（2101），所述储水箱（2101）的内壁固定连接有第一水泵（2111），所述第一水泵（2111）的输入端贯穿至储水箱（2101）的内部，所述第一水泵（2111）的输出端固定连通有连接管（2109），所述连接管（2109）远离第一水泵（2111）的一端与连通管（2124）的一端固定连通，所述顶架板（2112）的左侧面固定连接有计时器（2107）；所述电动伸缩杆（2104）的伸缩端固定连接有固定环（2113），所述固定环（2113）的底面与浸入壳（2117）的上表面固定连接，每个所述溶液箱（2103）的内壁均固定连接有透明板（2106）；所述连接管（2109）的外表面固定连接有定位板（2114），所述定位板（2114）的正面分别与溶液浸泡箱（12）的背面和储水箱（2101）的背面固定连接，所述溶液浸泡箱（12）的背面固定连通有第一排水管（2123）；所述储水箱（2101）的上表面和右侧面分别固定连通有注水管（2102）和第二排水管（2110），所述储水箱（2101）的上表面固定连接有三个稳定板（2108），每个所述稳定板（2108）的左侧面均与溶液浸泡箱（12）的右侧面固定连接。

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