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申请/专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
摘要：本申请提供一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模，涉及光掩模的技术领域，其步骤如下：在光掩模表面设置标尺，标尺以光掩模表面设置的定位线为基准，标尺每格度数的量级为微米级；蒙贴光罩护膜于光掩模的表面；通过显微镜观测光罩护膜的边沿在标尺上的读数，得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量。通过设置标尺，利用光掩模上预先设置的标尺，对光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量进行测量，只要借助显微镜辅助即可，无需使用标注差量测基台，降低了检测光罩护膜蒙贴位移量所需成本，进而降低了光掩模的整体成本。
主权项：1.一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法，其特征在于，步骤如下：S1，在光掩模表面设置标尺，所述标尺以光掩模表面设置的定位线为基准，所述标尺的长度方向沿Y轴方向设置，所述标尺每格度数的量级为微米级，所述标尺最少设置有一个，且至少光罩护膜沿Y轴方向上的一条侧边能够覆盖于标尺上；步骤S1包括：S11，在光掩模表面上的每条定位线上均设置标尺；S12，所述标尺至少与光掩模表面一侧的定位线在Y轴方向上重叠；S2，蒙贴光罩护膜于光掩模的表面；S3，通过显微镜观测光罩护膜的边沿在标尺上的读数，得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量。
全文数据：
权利要求：
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