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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

摘要：本发明提供一种在多个基板之间进行均匀性高的处理的涂布显影装置和涂布显影方法。该涂布显影装置构成为具备：处理块，其具备上下地层叠并且彼此划分开的多个基板搬送区域；处理模块，其分别设置于多个基板搬送区域；搬送机构，其分别设置于多个基板搬送区域，在搬送块与处理模块之间搬送基板；温度调整模块，其为了调整多个处理模块中的至少一个处理模块中的基板的温度，而调整向该一个处理模块搬送前的该基板的温度，被搬送机构进行温度调整后的该基板的搬出；温度传感器，其检测多个基板搬送区域中的至少一个基板搬送区域的气氛温度；以及温度变更机构，其基于由温度传感器检测出的所述气氛温度来变更温度调整模块中的基板的温度。

主权项：1.一种涂布显影装置，包括在基板上形成抗蚀膜的抗蚀膜形成模块以及使曝光完毕的所述抗蚀膜显影的显影模块来作为对所述基板进行处理的处理模块，在该涂布显影装置中，具备：处理块，其具备上下地层叠并且彼此划分开的多个基板搬送区域；搬送块，其用于在保存所述基板的搬送容器与各所述基板搬送区域之间搬送该基板；所述处理模块，其分别设置于所述多个基板搬送区域；搬送机构，其分别设置于所述多个基板搬送区域，在所述搬送块与所述处理模块之间搬送所述基板；温度调整模块，其为了调整多个所述处理模块中的至少一个处理模块中的所述基板的温度，调整向该一个处理模块搬送前的该基板的温度，被所述搬送机构进行温度调整后的该基板的搬出；温度传感器，其检测多个所述基板搬送区域中的至少一个基板搬送区域的气氛温度；以及温度变更机构，其基于由所述温度传感器检测出的所述气氛温度来变更所述温度调整模块中的所述基板的温度，在从所述温度调整模块中搬出时，所述基板的温度按照所述气氛温度比设定的气氛温度低的情况、所述气氛温度为设定的气氛温度的情况、所述气氛温度比设定的气氛温度高的情况的顺序依次变低，由此抑制各基板在经由所述至少一个基板搬送区域搬送至所述一个处理模块时的温度的偏差，在检测出的所述气氛温度比设定的气氛温度高的情况下，相比于检测出的所述气氛温度为设定的气氛温度的情况，所述基板被搬送至所述至少一个处理模块时的所述基板的温度的上升量大，在检测出的所述气氛温度比设定的气氛温度低的情况下，相比于检测出的所述气氛温度为设定的气氛温度的情况，所述基板被搬送至所述至少一个处理模块时所述基板的温度的上升量小。

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权利要求：

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