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申请/专利权人：山东京卫制药有限公司
摘要：本发明公开了一种低残留吸入给药装置，包括底座，以及设置在底座上的切割件和吸嘴盖板，吸嘴盖板上表面设置吸嘴；底座上设置容纳胶囊的胶囊仓，盖上吸嘴盖板时，胶囊仓位于吸嘴正下方；胶囊仓底部设置可刺入胶囊的进气针；吸嘴盖板上设置吸嘴，吸嘴底部设有网格或栅板；切割件受力沿底座由底座一端向另一端的吸嘴方向往复移动；切割件一端设有切割胶囊的切刀，切割件设置供药物通过的药物通孔。本发明提供的给药装置，使用时，胶囊竖向放置，切刀将胶囊壳横向切割，切割开口大，药粉通道通畅无遮挡，与传统的针刺相比，大大减少了药粉在胶囊壳内的残留；切割件本体上具有药物通孔，切割完成后，药物通孔与胶囊仓、吸嘴同心，不会阻挡药物递送，进一步降低了药物残留；进气针结构，由下而上向胶囊壳内通气，进一步保证了胶囊壳内无药物粉末残留。
主权项：1.一种低残留吸入给药装置，其特征在于，包括：底座，以及设置在底座上的切割件和吸嘴盖板，吸嘴盖板上表面设置吸嘴；底座上设置容纳胶囊的胶囊仓，盖上吸嘴盖板时，胶囊仓位于吸嘴正下方；胶囊仓底部设置可刺入胶囊的进气针；吸嘴盖板上设置吸嘴，吸嘴底部设有网格或栅板；切割件受力沿底座由底座一端向另一端的吸嘴方向往复移动；切割件一端设有切割胶囊的切刀，切割件设置供药物通过的药物通孔。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 山东京卫制药有限公司 一种低残留吸入给药装置
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